나노채널 형성방법
| 대표분류 | 성형(연삭, 주조, 가공 등) | ||
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| 연구기관 | 한국기계연구원 | 연구자 | 윤재성 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-1474944(한국) 이전유형: 전용/통상실시권 기술료: 전용실시 200만원 이상/통상실시 100만 이상(3년) 비고: 부가세 별도 본 발명은 나노채널 형성방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 나노채널 형성방법은 적어도 하나의 모서리를 갖는 그루브 형태의 채널이 상면에 형성된 채널기판을 준비하여 성형 몰드에 고정하는 채널기판 고정단계; 상기 채널이 충진되도록 상기 성형 몰드에 용융수지를 주입하는 용융수지 주입단계;를 포함하며, 상기 용융수지 주입시, 상기 채널의 모서리영역에서 상기 용융수지와 상기 채널을 형성하는 면 사이의 공간이 나노채널이 되도록 상기 용융수지를 주입하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 입출구포트 및 나노채널 전후와 연결되는 복잡한 형태의 나노채널도 동시에 간단하게 형성할 수 있고, 성형 몰드 내에 고정되는 채널기판의 소재와 성형몰드로 주입되는 용융수지의 소재를 서로 다르게 형성하여 나노채널의 표면 특성을 다양화시킬 수 있으며, 성형 몰드 내에서 용융수지를 이용하여 나노채널이 형성되므로 채널기판과의 접합성이 높으며, 사출성형공정을 이용하므로 저가의 대량생산이 가능한 나노채널 형성방법이 제공된다. |
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