전반사 패턴을 이용한 단면 검사 시스템, 그를 이용한 단면 검사 방법 및 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 시스템, 그를 이용한 단면 검사 방법
| 대표분류 | 측정/검사/시험 | ||
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| 연구기관 | 한국기계연구원 | 연구자 | 장성환 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-1181675(한국) 이전유형: 전용/통상실시권 기술료: 전용실시 200만원 이상/통상실시 100만 이상(3년) 비고: 부가세 별도 본 발명은 단면 검사 시스템 및 그를 이용한 검사 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 시스템은 패턴이 형성된 박막 시편의 단면 검사 시스템에 있어서, 상기 패턴에 이격되어 형성되며 전반사면을 포함하는 전반사 패턴부, 빛이 상기 패턴의 단면을 통과하여 상기 전반사 패턴부에 순차적으로 조사되도록 상기 박막 시편의 일 측면에 위치하는 광원 및 상기 전반사 패턴부에서 반사된 빛을 감지할 수 있도록 상기 박막 시편의 상부 또는 하부에 위치하는 검사부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 단면 검사 시스템에 의하면 전반사면을 가지는 전반사 패턴을 패턴 형성 공정 중에 형성하여, 고가의 장비를 이용하지 않고도 실시간으로 박막 시편에 형성된 패턴 단면의 형상을 검사할 수 있게 하는 장점이 있다. |
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