대면적 나노 템플릿의 제조방법 및 이에 의해 제조된 대면적 나노 템플릿
| 대표분류 | 나노기술 | ||
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| 연구기관 | 한국기계연구원 | 연구자 | 이지혜 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-1157430(한국) 이전유형: 전용/통상실시권 기술료: 전용실시 200만원 이상/통상실시 100만 이상(3년) 비고: 부가세 별도 본 발명은 대면적 나노 템플릿의 제조방법 및 이에 의해 제조된 대면적 나노 템플릿에 관한 것으로서, 매개 기판 상에 높이가 서로 다른 복수의 소면적 나노 템플릿을 배치하되, 상기 매개 기판과 상기 소면적 나노 템플릿의 나노 패턴이 마주보도록 배치하는 배치단계; 기저 기판 상에 평탄화 박막을 코팅하는 코팅단계; 상기 평탄화 박막이 상기 소면적 나노 템플릿에 향하도록 하여 상기 기저 기판을 상기 소면적 나노 템플릿들 측으로 가압하는 가압단계; 및 상기 소면적 나노 템플릿들이 상기 평탄화 박막에 결합되고 상기 매개 기판을 제거함으로써, 상기 소면적 나노 템플릿들, 상기 평탄화 박막 및 상기 기저 기판을 구비하는 대면적 나노 템플릿을 완성하는 완성단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. |
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