초발수 및 초발유성 표면 구현을 위한 나노 구조물 제조 방법
| 대표분류 | 나노기술 | ||
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| 연구기관 | 한국기계연구원 | 연구자 | 최대근 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-1374095(한국) 이전유형: 양도/전용/통상실시권 기술료: 양도 300만원 이상/전용실시 200만원 이상/통상실시 100만 이상(3년) 비고: 부가세 별도 초발수 및 초발유성 표면 구현을 위한 나노 구조물 제조 방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 나노 구조물 제조 방법은 초발수 및 초발유성 표면 구현을 위한 나노 구조물 제조 방법에 있어서, 기판 표면에 중간층을 형성하고 중간층 상부에 나노패턴을 형성하는 1단계; 및 중간층 또는, 중간층 및 나노패턴을 가공하여 중간층의 너비가 나노패턴의 너비보다 작도록 형성하는 2단계를 포함한다. |
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