연속 나노입자 정제 시스템 및 방법
| 대표분류 | 나노기술 | ||
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| 연구기관 | 한국기계연구원 | 연구자 | 김덕종 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-1408191(한국) 이전유형: 양도/전용/통상실시권 기술료: 양도 300만원 이상/전용실시 200만원 이상/통상실시 100만 이상(3년) 비고: 부가세 별도 본 발명은 연속 나노입자 정제 방법에 관한 것이며, 본 발명의 연속 나노입자 정제 방법은 나노입자를 포함하는 합성원액에 제1혼합용매를 첨가하여 제1혼합액을 마련하는 혼합액 마련단계; 별도의 유입구를 통하여 상기 제1혼합액과 제2혼합용매를 분리채널 내에 유입시키고, 상기 분리채널에 인가되는 전기장을 이용하여 상기 제1혼합액으로부터 나노입자를 분리하여 상기 제2혼합용매와 혼합하여 제2혼합액을 추출하는 분리단계; 비중차를 이용하여 상기 제2혼합액으로부터 상기 나노입자를 추출하는 정제하는 정제단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 의하면, 합성원액으로부터 나노입자를 연속적으로 정제할 수 있는 연속 나노입자 정제 시스템이 제공된다. |
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