자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치
| 대표분류 | 나노기술 | ||
|---|---|---|---|
| 연구기관 | 한국기계연구원 | 연구자 | 황보윤 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-1300014(한국) 이전유형: 전용/통상실시권 기술료: 전용실시 200만원 이상/통상실시 100만 이상(3년) 비고: 부가세 별도 본 발명은 자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 화학기상증착(CVD)으로 합성된 그래핀층을 폴리머층에 전사하고, 이를 다수개의 관통공이 형성된 기판에 밀착시켜 기판 상면에 그래핀층이 형성되고 그 상면에 폴리머층이 형성되도록 한 후, 기판을 뒤집어 식각용기에 담가 폴리머층이 용매에 잠기도록 하여 폴리머층을 제거하되 기판이 용매에 잠기지 않은 상태에서 폴리머층을 제거한 후 건조시킴으로써, 기판의 관통공 부분에 형성된 자유지지 그래핀의 손상을 방지할 수 있어 대면적의 자유지지 그래핀을 제조할 수 있는 자유지지형 나노박막 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것이다. |
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