사염화실란으로 부터 삼염화실란을 제조하는 방법 및 이에 사용되는 트리클 베드 반응기
| 대표분류 | 화학 | ||
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| 연구기관 | 한국화학연구원 | 연구자 | 최원춘 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-2012-0027351(한국) 이전유형: 양도 기술료: 550만원(부가세포함) 비고: - 본 발명은 삼염화실란(trichlorosilane, 이하, TCS)의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 전자급 혹은 태양전지급 실리콘(silicon) 생산을 위해 사염화실란(STC)으로 삼염화실란(TCS)을 제조하는 공정에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따라 사염화실란(STC)으로 부터 삼염화실란(TCS)을 제조하는 공정은, 트리클 베드 반응기(trickle bed reactor)에 촉매를 충진하는 단계; 상기 반응기로 액상의 사염화실란과 기상의 수소를 공급하는 단계; 상기 반응기 내 촉매 상에서 상기 액상 사염화실란과 기상의 수소에 대하여 하기 반응식 1의 반응이 수행되는 단계; 및 상기 반응을 통해 생성된 기상의 삼염화실란과 염화수소 생성물을 분리하는 단계를 포함하며, 본 발명에 따르면 300℃ 이하 반응조건에서도 사염화실란의 전환율을 40 % 이상으로 얻을 수 있고, 고순도의 삼염화실란을 연속적으로 공정의 중단없이 얻을 수 있는 이점이 있으며, 액상의 미 반응 사염화실란과 기상의 삼염화실란 및 염화수소의 분리가 용이해져서 반응속도가 증가하고 종전의 기술과 비교하여 분리탑 설치 운전에 따른 분리비용이 감소하는 장점이 있다: <반응식 1> SiCl4(l) + H2(g) → SiHCl3(g) + HCl(g). |
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