입자형 다결정실리콘 제조용 고압 유동층반응기
| 대표분류 | 전기소자 | ||
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| 연구기관 | 한국화학연구원 | 연구자 | 김희영 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-2006-0011493(한국) 이전유형: 양도 기술료: 550만원(부가세포함) 비고: - 본 발명은 입자형 다결정실리콘 제조용 고압 유동층반응기에 관한 것으로서, 반응관을 기준으로 하여 내부영역과 외부영역으로 구획되는 바, 상기 내부영역에서는 실리콘입자 층이 형성되고, 실리콘 석출반응이 진행되며, 외부영역에서는 반응관과 반응기 셀 사이의 공간으로 이루어지며, 불활성가스 분위기로 유지되어 그 내부영역과 외부영역 사이의 압력 차이가 1 bar 이내에서 낮게 유지될 수 있도록 함으로써, 높은 압력에서의 실리콘 석출 반응에서도 반응관의 물리적 안정성을 유지하면서 입자형태의 다결정실리콘을 안정적으로 제조할 수 있는 입자형 다결정실리콘 제조용 고압 유동층반응기에 관한 것이다. |
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