유동층 반응기를 이용한 다결정실리콘 제조 방법
| 대표분류 | 화학 | ||
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| 연구기관 | 한국화학연구원 | 연구자 | 김희영 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 07708931.6(프랑스) 이전유형: 양도 기술료: 550만원(부가세포함) 비고: - 본 발명은 (a) 반응관과(b) 반응관을 둘러싸는 반응기 쉘과(c) 실리콘 입자층이 형성되어 실리콘 석출이 일어나는 반응관 내에 형성되는 내부 영역 및 불활성 가스 분위기 하로 유지되는 반응기 쉘과 반응관 사이에 형성되는 외부 영역과 및(d) 내부 영역과 외부 영역 사이의 압력차가 0bar(bar) 이상 1bar 이하의 범위 내로 유지되는 제어 수단를 구비하고, 그것에 따라 비교적 고반응 압력 하라도 반응관의 물리적 안정성을 유지할 수 있고 입자형 다결정 실리콘을 효율적으로 제조할 수 있는, 유동층 반응기 중에서의 입자형 다결정 실리콘의 대량 제조 방법에 관한 것이다. |
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