술폰화 페닐실록산 고체산 촉매, 이의 제조방법, 및 이를 이용한5-히드록시메틸푸르푸랄의제조방법
| 대표분류 | 분리/혼합 | ||
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| 연구기관 | 한국화학연구원 | 연구자 | 김형록 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-2012-0112432(한국) 이전유형: 양도 기술료: 550만원(부가세포함) 비고: - 본 발명은 술폰화 페닐실록산 고체산 촉매의 제조방법, 이에 따라 제조된 술폰화 페닐실록산 고체산 촉매 및 이를 이용한 과당으로부터 5-히드록시메틸푸르푸랄(5-HMF)의 제조방법에 관한 것이다. 술폰화 페닐실록산 고체산 촉매의 다양한 제조법을 통해 제조된 촉매를 과당의 탈수반응에 적용하여 5-히드록시메틸푸르푸랄(5-HMF)를 선택적으로 제조할 수 있다. 최적화된 합성방법에 의해 제조된 술폰화 페닐실록산 고체산 촉매물질은 촉매활성과 안정성이 매우 우수하며, 반응후 분리 재사용할 수 있고 연속반응식 공정에서도 우수한 활성과 안정성을 제공함으로써 5-히드록시메틸푸르푸랄(5-HMF)의 효율적인 제조방법을 제공할 수 있다. |
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