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도핑 나노 결정 실리콘의 제조방법

도핑 나노 결정 실리콘의 제조방법 상세정보
대표분류 화학
연구기관 한국화학연구원 연구자 최영민
기술내용 이전대상 특허번호: 10-2012-0020623(한국)
이전유형: 양도
기술료: 550만원(부가세포함)
비고: -

본 발명은 도핑 나노 결정 실리콘의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 도핑 나노 결정 실리콘의 제조방법은 도핑 소스에 따라 다양한 응용이 가능하고 종래의 도핑방법보다 보다 단순하여 경제적이다.
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