아미노싸이올레이트를 이용한 인듐 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법
| 대표분류 | 화학 | ||
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| 연구기관 | 한국화학연구원 | 연구자 | 김창균 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-2012-0047442(한국) 이전유형: 양도 기술료: 550만원(부가세포함) 비고: - 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 인듐 전구체에 관한 것으로, 상기 인듐 전구체는 황을 포함하고 있는 전구체로서 박막 제조 중에 별도의 황을 첨가시키지 않아도 되는 장점이 있고 열적 안정성과 휘발성이 향상되어 양질의 황화인듐 박막을 형성할 수 있다.[화학식 1](상기 식에서, R1, R2는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기이고, R3, R4는 각각 독립적으로 C1-C10의 선형 또는 분지형 알킬기, 또는 C1-C10의 플루오르화 알킬기이며, X 는 Cl, Br 또는 I이고, n은 1 내지 3이다.) |
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