고리형 이미드 화합물 및 이를 이용한 나노기공을 갖는 고분자 겔의 제조방법
| 대표분류 | 화학 | ||
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| 연구기관 | 한국화학연구원 | 연구자 | 원종찬 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-2009-0041801(한국) 이전유형: 양도 기술료: 550만원(부가세포함) 비고: - 본 발명은 고리형 이미드 화합물 및 이를 이용한 나노기공을 갖는 고분자 겔의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 고리형 이미드 화합물과, 이 화합물로 교차결합이 가능하도록 하는 기능기를 갖도록 한 나노기공 고분자 겔 가교용 고리형 이미드 화합물을 합성하고, 상기 고리형 이미드 화합물을 이용하여 기능기에 따라 가교시켜 나노기공을 포함하는 고분자 겔을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 나노기공 고분자 겔의 제조방법에서는 고리형 이미드 화합물의 고리크기에 따라 수 나노미터 이하의 크기에서 수 Å 크기 내에서 분포를 조절하여 나노기공을 형성한 겔을 제조할 수 있다. |
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