파장 증가에 따라 선형으로 광투과율이 증가되도록 조절된 필름 및 광투과율의 조절방법
| 대표분류 | 광학 | ||
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| 연구기관 | 한국화학연구원 | 연구자 | 윤상준 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-2014-0003804(한국) 이전유형: 양도 기술료: 550만원(부가세포함) 비고: - 본 발명은 실리콘 기판; 및 상기 실리콘 기판 상부에 적층된 9 내지 120 nm 두께의 금속 산화물 층;을 포함하는 파장 증가에 따라 선형으로 광투과율이 증가되도록 조절된 필름을 제공한다. 본 발명에 따른 필름은 파장 증가에 따라 선형으로 광투과율이 증가되도록 조절된 필름으로써, 파장이 짧은 자외선 파장대(약 400 nm 이하)에서부터 파장이 긴 가시광선 파장대(약 400 내지 750 nm) 또는 그보다 긴 파장대(약 750 nm 이상) 영역까지 선형으로 광투과율이 증가되도록 조절하여 적절히 필요한 파장대에서의 광투과율을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 필름은 향후 광통신 및 광컴퓨터 데이터 송수신 시스템, 광 메모리 저장, 3 차원 홀로그램, 3 차원 가상 체험 공간에서의 광 조명 특성 제어에 필요한 필름형 재료 제조의 기반 기술로 사용할 수 있다. |
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