용존산소 제거용 촉매 첨착형 다공성 고분자막 및 이의제조 방법
| 대표분류 | 화학 | ||
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| 연구기관 | 한국화학연구원 | 연구자 | 이규호 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-2005-0081384(한국) 이전유형: 양도 기술료: 550만원(부가세포함) 비고: - 본 발명은 용존산소 제거용 촉매 첨착형 다공성 고분자막 및 이의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 상전이 공정에 의해 특정량의 알루미나를 함유시켜 높은 기공율과 극성의 표면을 형성하는 다공성 고분자막에, 팔라듐 및 백금 중에서 선택된 전이금속을 일정량 첨착된 다공성막으로, 종래에 비해 상기 전이금속의 유실이 적고, 다공성막의 기공을 통하여 수소기체 공급이 원활하므로 공정상의 안정성 확보가 가능하여 2차 오열물질이 발생되지 않는 반도체, 발전소, 미생물의 배양, 식품과 의약품 제조 및 발효산업 등의 다양한 분야에서 적용 가능한 용존산소 제거용 촉매 첨착형 다공성 고분자막 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. |
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