<거래정보>

• 이전대상 특허번호 : 10-2248262


• 이전유형 : 양도


• 특허만료일 : 2039-07-01


• 비고 : 기술료 외 양수특허의 연차료, 권리이전 제반비용 기업 부담

<기술정보>

• 기술분야 : 본 발명은 광합성률 분포에 기초하여 종자의 특정 위치에 이산화탄소를 효율적으로 공급하고 광합성 효율을 향상시키기 위한 가스 분사 장치 및 가스 분사 방법에 관한 것이다.


• 기술특징 : 여기서 주요 특징은 효율적인 광합성을 위해 특정 위치 및 이산화탄소 공급량을 결정하기 위한 광합성 속도 분포의 사용이다.


• 기술효과 : 따라서, 본 발명은 광합성 속도 분포에 기초하여 이산화탄소를 공급함으로써 광합성 효율 및 종자 생산성을 향상시킨다.


• 특허보기 : http://newsd.wips.co.kr/wipslink/api/dkrdshtm.wips?skey=3521192000851