침상형 탄산세륨으로부터 100 ｎｍ 급 크기의 산화세륨 제조방법
| 대표분류 | 화학 | ||
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| 연구기관 | 한국지질자원연구원 | 연구자 | 윤호성 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-1101833(한국) 이전유형: 통상실시권 기술료: 중소기업 기준 : 기술지도 미포함 조건 / 기술료 300~500만원 비고: 부가세 별도 본 발명은 0.4 ~ 1M 염화세륨수용액에 40 ~ 60℃에서 교반하면서, 중탄산암모늄을 첨가하여 반응 시킨 후 (110) 고액 분리하여 침상형 탄산세륨을 제조하는 단계(120);b)상기 침상형 탄산세륨을 600 ~ 700℃에서 소성시켜 침상형 산화세륨을 제조하는 단계(130); 및c)상기 침상형 산화세륨에 폴리아크릴산 및 0.5 ~ 1M 암모니아수를 투입하고 분쇄(140)하여 평균입도 80 ~ 100nm의 산화세륨 입자를 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 산화세륨 입자 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 의한 제조방법은 종래 판상형의 탄산세륨을 소성하여 제조한 산화세륨 입자보다 평균입경이 80 ~ 100nm 되는 미세한 산화세륨 입자를 제조할 수 있으며, 제조효율이 높은 장점이 있다. |
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