ＣＣＤ 공정을 이용한 리튬 이온의 흡착/탈착 장치 및 그 방법
| 대표분류 | 도금 | ||
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| 연구기관 | 한국지질자원연구원 | 연구자 | 이진영 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-1047986(한국) 이전유형: 통상실시권 기술료: 중소기업 기준 : 기술지도 미포함 조건 / 기술료 300~500만원 비고: 부가세 별도 CCD 방식으로 흡착 및 탈착 공정을 수행함으로써 흡착율 65±5% 및 탈착율 95±3%를 달성할 수 있는 염수로부터 리튬 이온을 추출할 수 있는 리튬 이온의 흡착/탈착 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 CCD 공정을 이용한 리튬 이온의 흡착/탈착 방법은 복수의 흡착 반응 용기 중 하나의 흡착 반응 용기 내에 염수를 공급하는 염수 공급 단계; 상기 염수가 공급된 흡착 반응 용기에 흡착제를 투입한 후, 상기 염수와 흡착제가 상기 복수의 흡착 반응 용기 내부 각각을 차례로 역류하도록 하여 상기 흡착제에 리튬 이온을 흡착하는 리튬 이온 흡착 단계; 및 상기 리튬 이온이 흡착된 흡착제가 복수의 탈착 반응 용기 내부 각각을 차례로 역류하도록 하여 상기 흡착제로부터 리튬 이온을 탈착하는 리튬 이온 탈착 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. |
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