저농축 고밀도 판상 우라늄 타겟의 제조방법 및 이에 의하여 제조되는 저농축 우라늄 고밀도 타겟

저농축 고밀도 판상 우라늄 타겟의 제조방법 및 이에 의하여 제조되는 저농축 우라늄 고밀도 타겟 상세정보
대표분류 기타
연구기관 한국원자력연구원 연구자 김창규
기술내용 이전대상 특허번호: 10-1138445(한국)
이전유형: 양도
기술료: 무상
비고: -

본 발명은 저농축이나 고밀도인 판형 우라늄 타겟의 제조방법 및 이에 의하여 제조되는 판형 저농축 고밀도 우라늄 타겟에 관한 것이다. 또한 본 발명은 상기 방법으로 제조된 우라늄 타겟을 이용하여 의료용 방사성 99Mo를 제조하는 방법에 관한 것이다. 상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 Al, Si, Cr, Fe, 및 Mo로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 1wt% 미만으로 포함하는 저농축 우라늄 원료로부터 원심분무법을 이용하여 우라늄 합금 입자 분말을 제조하는 단계; 제조된 우라늄 합금 입자 분말을 40 내지 50 부피%로 Al-Si 합금 분말과 혼합하여 압분체를 제조하는 단계; 및 제조된 압분체를 압연하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 판형 저농축 고밀도 우라늄 타겟의 제조방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 상기 방법으로 제조된 우라늄 타겟에 대하여 중성자를 조사하는 단계; 상기 조사된 타겟을 염기 용액으로 용해하는 단계; 상기 단계 b에서 처리된 결과물에 대하여 산 용액으로 처리하는 단계; 및 상기 단계에서 산처리된 결과물에서 99Mo를 추출하는 단계를 포함하는 의료용 방사성 99Mo의 제조방법을 제공한다. 본 발명의 제조방법에 따르면, IAEA의 권고에 부합하는 저농축 우라늄 타겟을 사용하면서도 99Mo의 생산량이 저하되지 않는 장점이 있다. 또한, 기존 타겟 형태를 유지하고 제조공정의 변경을 최소화할 수 있어 부가적이 공정이 필요 없고, 나아가 99Mo의 제조과정에서 염기로 우선 처리하여 알루미늄을 제거한 후, 산 처리를 함으로써 발생하는 핵폐기물의 양을 감소시킬 수 있는 장점이 있다.
자료집 다운로드

상담 및 문의하기