임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치
| 대표분류 | 기타 | ||
|---|---|---|---|
| 연구기관 | 한국원자력연구원 | 연구자 | 이치규 |
| 기술내용 |
이전대상 특허번호: 10-1540969(한국) 이전유형: 양도 기술료: 무상 비고: - 본 발명은 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치에 관한 것으로서, 스와이프(swipe) 시료로부터 입자를 회수하기 위해 사용되는 임팩트 구조를 변경하여 입자 도입구로 유입된 입자의 흐름을 조절하여 배기구를 통해 배출되는 입자의 수를 최대한 줄임으로써, 이차이온질량분석법(SIMS)에 의한 국제원자력기구(IAEA)의 사찰시료 입자 분석 시 원자력 관련 시설에서 채취한 스와이프(swipe) 시료로부터 입자 회수율을 향상시킬 수 있어, 보다 많은 입자의 분석이 가능하여 분석 결과의 신뢰도를 높일 수 있는 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치에 관한 것이다. |
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