가열위치를 제어하는 마이크로파 선택 가열 기술
| 대표분류 | 전기전자 | ||
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| 연구기관 | 한국전기연구원 | 연구자 | 정순신 |
| 기술내용 |
TRL 5 [기술개요] ○ 고출력 마이크로파를 이용하여 피가열물의 가열 위치와 범위를 실시간 제어할 수 있는 기술 ○ 마이크로파의 파장, 위상, 또는 전력을 변화시켜 피가열물을 균일하게 가열할 수 있는 마이크로파 가열 장치 ○ 가열 위치의 제어 및 균일한 가열을 통한 에너지 효율 증대 및 생산성 제고 [기술의 특장점] ○ 가열 위치를 제어하여 피가열물의 균일한 가열 가능 ○ 가열하고자 하는 대상과 위치의 선택적 가열을 통해 에너지 효율 증대 ○ 마이크로파의 파장, 위상, 전력을 미세 조절할 수 있는 시스템의 제어성 보유 ○ 피가열물의 선택 가열과 균일 가열이 가능하여, 다양한 산업 분야에 적용 가능 [시장동향] ○ 글로벌 산업용 마이크로파 가열장비 시장은 2020년 10억 달러로 연평균 4.3% 성장하여 2024년에는 13억 달러에 달할 것으로 전망 ○ 글로벌 전자레인지 시장은 2020년 112억 달러로 연평균 1.6% 성장하여 2024년에는 119억 달러에 달할 것으로 전망 [적용분야] ○ 본 기술은 고급 탄소섬유 및 탄소 섬유 강화 플라스틱 제조 공정, 열처리 공정이 필요한 반도체 제조 공정, 인공 다이아몬드 제조 공정 등에 적용 가능함 |
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