웨이퍼의 표면온도를 조절하는 개선된 반도체 칠러 장치

웨이퍼의 표면온도를 조절하는 개선된 반도체 칠러 장치 상세정보
대표분류 전기소자
연구기관 한국생산기술연구원 연구자 권오경, 차동안
기술내용 본 기술은 반도체 제조 공정에서 공정부하의 적정온도를 제어하기 위한 냉매 직접 열교환 방식의 반도체 칠러와 반도체 칠링 방법 및 반도체 칠러의 운전 방법에 관한 것으로, 브라인 사이클을 별도로 구비하지 않음으로써 초기 설비 비용 및 운용 비용(전력 소비 절감)을 획기적으로 낮추고 간접 냉각 방식을 직접 냉각 방식으로 전환함으로써 장치의 효율 향상을 달성하였고 각 온도범위에 따른 운전모드를 선택적으로 수행할 수 있도록 하여 다양한 온도범위의 반도체 공정을 효율적으로 제어할 수 있는 효과를 가진다.
자료집 다운로드

상담 및 문의하기